原子层刻蚀和等离子体刻蚀，等离子体刻蚀存在问题

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1、等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。

2、等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。

3、某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。

4、进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。

5、工件送入被真空泵抽空的反应室。

6、气体被导入并与等离子体进行交换。

7、等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。

8、等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子体工艺。

9、近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction plasma）。

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